冷卻水循環(huán)裝置是指冷卻水換熱并經(jīng)降溫，再循環(huán)使用的給水系統(tǒng)，包括敞開式和密閉式兩種類型。
 

　　冷卻水循環(huán)裝置的技術(shù)原理：
 

　　以水作為冷卻介質(zhì)，并循環(huán)使用的一種冷卻水系統(tǒng)。主要由冷卻設(shè)備、水泵和管道組成。
 

　　冷水流過需要降溫的生產(chǎn)設(shè)備(常稱換熱設(shè)備，如換熱器、冷凝器、反應(yīng)器)后，溫度上升，如果即行排放，冷水只用一次(稱直流冷卻水系統(tǒng))，使升溫冷水流過冷卻設(shè)備則水溫回降，可用泵送回生產(chǎn)設(shè)備再次使用，冷水的用量大大降低，常可節(jié)約95%以上。冷卻水占工業(yè)用水量的70%左右，因此，冷卻水循環(huán)系統(tǒng)起了節(jié)約大量工業(yè)用水的作用。
 

　　從冷卻塔來的較低溫度的冷卻水，經(jīng)冷卻泵加壓后送入冷水機組，帶走冷凝器的熱量后，溫度便升高了，然后被送到冷卻塔上進行噴淋，由于冷卻塔風(fēng)扇的轉(zhuǎn)動，使冷卻水在噴淋下落過程中，不斷與室外空氣發(fā)生熱濕交換而冷卻，冷卻后的水落入冷卻塔積水盤中，然后再次被冷卻泵加壓后進入下一個循環(huán)。
 

　　這就是它的流程，原理也很簡單，就是一個熱量交換的過程，這跟我們散熱器采暖一個道理。
 

　　那么冷卻水循環(huán)裝置在工業(yè)上的應(yīng)用讓我們接著往下看。
 

　　1、對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部分的冷卻:
 

　　單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
 

　　2、對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:
 

　　激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
 

　　3、其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻:
 

　　等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
 

　　4、分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻:
 

　　電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖條幅器的發(fā)熱部分、原子吸光光度計的光源等。
 

　　5、數(shù)控機床、加工中心冷卻介質(zhì)的降溫。